FilmQ系列膜厚测量系统

FilmQ膜厚测量系统利用光干涉原理，选配多种宽光谱光源照射单层薄膜（薄膜需透明、半透明或者完全反射基板上）或者多层薄膜结构，并通过计算反射回来的干涉信号快速计算出薄膜的厚度、光学常数（N&K值）等。

FilmQ适用于广泛的膜厚测量场景，最小1nm厚薄膜，最大数10mm薄膜均能准确测量，重复性0.3nm或0.01%。FilmQ配备的膜厚测量软件简单易上手，配合涵盖主流材料的数据库，单次测量时间低于1秒。
 

应用领域

· 半导体制程（photoresists,dielectrics,poly-Si,a-Si,DLC,photonic multilayer structures）
· 液晶显示（SiO2,光刻胶ITO等）
· 光学薄膜
· 聚合物
· MEMS&MOEMS
· 透明或半透明基底

技术规格

安装尺寸规格